特許
J-GLOBAL ID：200903006242342430
基板へ書込むための直接書込み多重放射エネルギービームリソグラフィー装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-216744
公開番号（公開出願番号）：特開平6-029169
出願日： 1991年01月31日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】 直接書き込みリソグラフィー装置のウエハを一決めさせる改良した装置を提供する。【構成】 本発明装置は、半導体ウエハへ書き込むための多重ビームリソグラフィー装置で用いられる縮小レンズを介して位置合わせを行う。この時、かき込みに用いるビームとは異なる波長のビームで見ることによって生じる歪と曲がりを修正する光学装置を用いる。さらに、位置合わせ光学装置は、液晶リターダとビーム分割器を用いて、単一光学装置に多数の光路を設け、放射ビームをそのうちの選択された光路を通す。第1の光路が高倍率光路、第2の光路が低倍率光路である。さらに別の光路で明視野と暗視野での照明及びビューを行う。
請求項（抜粋）：
(a)第1の複数の放射エネルギービームを発生する第1の放射エネルギー源を有し、基板へ書込む書込み手段と、(b)前記基板を前記放射エネルギービームに位置合わせするための位置合わせ手段と、を備える基板へ書込むための直接書込み多重放射エネルギービームリソグラフィー装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 321
, H01L 21/30 311 M
