特許
J-GLOBAL ID：200903006262972252

微生物防除剤

発明者：
窪田 尚生

窪田 尚生 について

, 
田中 昭次

田中 昭次 について

, 
松久 茂嘉

松久 茂嘉 について


出願人/特許権者：
武田薬品工業株式会社

武田薬品工業株式会社 について


代理人 (1件)： 岡本 寛之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-331715
公開番号（公開出願番号）：特開2003-212706
出願日： 2002年11月15日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 細菌、かび、酵母、藻などに対して優れた防除効果を発現することのできる、微生物防除剤を提供すること。【解決手段】 微生物防除剤として、ビス四級アンモニウム塩化合物と、イソチアゾリン系化合物、ニトロアルコール系化合物、ジチオール系化合物、チオフェン系化合物、ハロアセチレン系化合物、フタルイミド系化合物、ハロアルキルチオ系化合物、ピリチオン系化合物、フェニルウレア系化合物、トリアジン系化合物、グアニジン系化合物、トリアゾール系化合物、ベンズイミダゾール系化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有させる。これによって、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として、優れた相乗効果を発現させることができる。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示されるビス四級アンモニウム塩化合物と、下記一般式(2)および/または下記一般式(3)で示されるイソチアゾリン系化合物、下記一般式(4)で示されるニトロアルコール系化合物、下記一般式(5)で示されるジチオール系化合物、下記一般式(6)で示されるチオフェン系化合物、下記一般式(7)で示されるハロアセチレン系化合物、下記一般式(8)で示されるフタルイミド系化合物、下記一般式(9)で示されるハロアルキルチオ系化合物、下記一般式(10)で示されるピリチオン系化合物、下記一般式(11)で示されるフェニルウレア系化合物、下記一般式(12)で示されるトリアジン系化合物、下記一般式(13)および/または下記一般式(14)で示されるグアニジン系化合物、下記一般式(15)および/または下記一般式(16)で示されるトリアゾール系化合物、下記一般式(17)で示されるベンズイミダゾール系化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有することを特徴とする、微生物防除剤。一般式(1)【化1】(式中、R1およびR2は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を、R3およびR4は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、R5は、置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素-炭素間単結合を、Y1は、-NRnCO-、-CONRn-、-NRnCS-(前記Rnは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。)、-COO-、-COS-、-O-、-S-または炭素-炭素間単結合を、Y2は、-CONRn-、-NRnCO-、-CSNRn-(前記Rnは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。)、-OOC-、-SOC-、-O-、-S-または炭素-炭素間単結合を、Zはアニオンを、aは1または2の整数を示す。)一般式(2)【化2】(式中、R6は、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、X1およびX2は、同一または相異なって、炭化水素基(X1およびX2が2価の炭化水素基で環形成されている場合を含む。)、ハロゲン原子または水素原子を示す。)一般式(3)【化3】(式中、R7は、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、A環は置換基を有していてもよいベンゼン環を示す。)一般式(4)【化4】(式中、R8は、炭化水素基または水素原子を、R9は、ヒドロキシル基を有する炭化水素基、ハロゲン原子または水素原子を、X3は、ヒドロキシル基を有する炭化水素基またはハロゲン原子を示す。)一般式(5)【化5】(式中、X4およびX5は、同一または相異なって、ハロゲン原子または水素原子を示す。)一般式(6)【化6】(式中、X6、X7、X8およびX9は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、ハロゲン原子または水素原子を示す。)一般式(7)【化7】(式中、R10およびR11は、同一または相異なって,置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、X10はハロゲン原子を、zは0または1の整数を示す。)一般式(8)【化8】(式中、X11およびX12は、ともにハロゲン原子を、X13は、ハロゲン原子を有する炭化水素基またはハロゲン原子を、環Bは、シクロヘキセン環またはベンゼン環を示す。)一般式(9)【化9】(式中、R12は、置換基を有していてもよい炭化水素基または-N(Ra)(Rb)(RaおよびRbは、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基)を、X14およびX15は、ともにハロゲン原子を、X16は、ハロゲン原子を有する炭化水素基またはハロゲン原子を、Y3は、-SO2-、-CONH-を、C環は、置換基を有していてもよいベンゼン環を示す。)一般式(10)【化10】(式中、Mは金属を、nは1〜4の整数を示す。)一般式(11)【化11】(式中、R13およびR14は、同一または相異なって、隣接する窒素原子に酸素原子を介して結合していてもよい置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、X17およびX18は、同一または相異なって、ハロゲン原子または水素原子を示す。)一般式(12)【化12】(式中、R15、R16、R17およびR18は、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、X19は、アルキルチオ基またはハロゲン原子を示す。)一般式(13)【化13】(式中、Wは塩を、mは1〜30の整数、pは2〜8の整数を示す。)一般式(14)【化14】(式中、D環は置換基を有していてもよいベンゼン環を示し、tは2〜8の整数を示す。)一般式(15)【化15】(式中、R19、R20およびR21は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、F1は、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアラルキル基を、qは1〜3の整数を示す。)一般式(16)【化16】(式中、R22およびR23は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、F2は、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアラルキル基を、qは1〜3の整数を示す。)一般式(17)【化17】(式中、R24は、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、Eは、-NHCOOR25(R25は、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。)で示されるカーバメート基、または、チアゾリル基を示す。)
IPC (21件)：
A01N 43/40 101 ,  A01N 33/20 101 ,  A01N 37/18 ,  A01N 37/32 101 ,  A01N 41/06 ,  A01N 43/10 ,  A01N 43/26 ,  A01N 43/38 ,  A01N 43/653 ,  A01N 43/68 ,  A01N 43/80 102 ,  A01N 47/12 ,  A01N 47/12 101 ,  A01N 47/30 ,  A01N 47/44 ,  A01N 55/02 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 532 ,  C02F 1/50 ZAB
FI (26件)：
A01N 43/40 101 Z ,  A01N 33/20 101 ,  A01N 37/18 Z ,  A01N 37/32 101 ,  A01N 41/06 Z ,  A01N 43/10 Z ,  A01N 43/26 ,  A01N 43/38 ,  A01N 43/653 B ,  A01N 43/653 C ,  A01N 43/68 ,  A01N 43/80 102 ,  A01N 47/12 Z ,  A01N 47/12 101 ,  A01N 47/30 Z ,  A01N 47/44 ,  A01N 55/02 B ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 510 D ,  C02F 1/50 520 K ,  C02F 1/50 532 C ,  C02F 1/50 532 D ,  C02F 1/50 532 H ,  C02F 1/50 532 J ,  C02F 1/50 532 L ,  C02F 1/50 ZAB
Fターム (17件)：
4H011AA01 ,  4H011AA03 ,  4H011BA06 ,  4H011BB04 ,  4H011BB06 ,  4H011BB07 ,  4H011BB08 ,  4H011BB09 ,  4H011BB10 ,  4H011BB11 ,  4H011BB13 ,  4H011BB14 ,  4H011BB16 ,  4H011DA13 ,  4H011DD01 ,  4H011DD05 ,  4H011DF04
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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