特許

J-GLOBAL ID：200903006273979976

感温抵抗材料とその製造方法及び感温抵抗材料を用いた赤外線センサ

発明者： 吉岡 智良 ,  出口 治彦 ,  薦田 智久
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-182107
公開番号（公開出願番号）：特開2002-008905
出願日： 2000年06月16日
公開日（公表日）： 2002年01月11日
要約：

【要約】【課題】 高いヤング率を有し、かつ低酸素透過性、低吸湿性である膜上に形成されており、また、成膜後の熱処理工程が不要であり、低い温度条件下のスパッタリング法で薄膜を形成することができ、かつ、その比抵抗が小さく、室温付近における抵抗温度係数が-4%/°C以下とその絶対値が大きい感温抵抗材料、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 アルゴンと酸素及び他の不可避不純物とからなる混合ガスの雰囲気下で、シリコン窒化物からなるシリコン窒化膜上に感温抵抗材料をスパッタリング処理により成膜する。図1は、感温抵抗材料としてのバナジウム酸化物の比抵抗の、昇温過程における温度特性を、温度(°C)を横軸に、比抵抗ρ(Ω・cm)を縦軸(logスケール)にした片対数グラフである。

請求項（抜粋）：

スパッタリング法によって基板上に薄膜を形成する感温抵抗材料の製造方法において、上記基板温度が300°Cを超えない条件下で成膜することを特徴とする感温抵抗材料の製造方法。

IPC (3件)：

H01C 7/04 ,  C23C 14/54 ,  G01J 1/02

FI (3件)：

H01C 7/04 ,  C23C 14/54 D ,  G01J 1/02 C

Fターム (12件)：

2G065AB02 ,  2G065BA12 ,  4K029AA04 ,  4K029BA43 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029EA08 ,  5E034BA09 ,  5E034BB08 ,  5E034BC07 ,  5E034DA02 ,  5E034DE16