特許

J-GLOBAL ID：200903006278122070

光受容部材の製造方法

発明者： 白砂 寿康
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-049098
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244284
出願日： 1996年03月06日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 導電性支持体上に、シリコン原子を母体とする非晶質材料からなる光導電層、中間層および表面層を少なくとも有し、電荷保持特性、残留電位等の電気的特性が優れかつ耐久性のある光受容部材の製造方法を提供する。【解決手段】 真空気密に形成された反応容器の放電空間内に導電性支持体を設置し、各層の構成原子を含む原料を導入し、放電により原料ガスを分解して分解ガスを支持体上に順次積層する工程中、中間層作製時の二種の原料ガスの流量比の時間的変化を所定の範囲内になるようにして成膜する。

請求項（抜粋）：

導電性支持体上にシリコン原子を母体とする非晶質材料からなる光導電層、中間層および表面層を少なくとも有する光受容部材の製造方法において、真空気密に形成された反応容器の放電空間内に前記導電性支持体を設置し、前記各層の構成原子を含む原料を導入し、放電により前記原料ガスを分解し、その分解ガスを前記導電性支持体上に順次積層する工程を含み、前記中間層の作製時に、少なくともシリコン原子を供給し得るシリコン供給用の原料ガスと他原子を供給し得る他原子供給用の原料ガスを用い、シリコン供給用の原料ガス流量Bに対する他原子供給用の原料ガス流量Aの比C=A/Bの時間当りの変化率S=△C/△tを、所定の範囲になるように原料ガスを反応容器に導入すること特徴とする光受容部材の製造方法。