特許
J-GLOBAL ID：200903006284855020
投影露光方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本庄 伸介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-036914
公開番号（公開出願番号）：特開平6-252021
出願日： 1993年02月25日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：
【要約】【目的】投影露光において孤立パターンと規則的に配置された配列パターンの焦点深度を同時に向上させる。【構成】照明光の形状を中心部が暗くなるように変型し、同時にウエファを光軸方向に移動させ複数回露光する。
請求項（抜粋）：
被露光パターンを有するマスクを照明光学系を用いて照明するとともに前記被露光パターンをレジスト膜を塗布したウエファ上に投影光学系を用いて投影する投影露光方法において、前記照明光学系中に備えた照明形状変形部材により照明光の光束の中心部を暗くするとともに、前記被露光パターンの結像面と前記レジスト膜の相対的に異なる光軸上の複数の位置において露光することを特徴とする投影露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 301 C
, H01L 21/30 311 L
