特許
J-GLOBAL ID:200903006295426466

ビスフエノール A合成用に最適化されたイオン交換樹脂床

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小田島 平吉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-092850
公開番号(公開出願番号):特開平6-320009
出願日: 1994年04月07日
公開日(公表日): 1994年11月22日
要約:
【要約】【目的】ビスフェノールA製造用固定床反応器の容積/時間収率を向上(改善)させる。【構成】a) 樹脂床全体容積の75%〜85%を占める下層部が低架橋度(≦2%)の樹脂、及びb)該樹脂床全体容積の15%〜25%を占める上層部が、より高度の架橋度(≧2%≦4%)を持ち、さらにそれが持つスルホン酸基の1〜25モル%がアルキル-SH単位を持つ化合物で覆われていてもよい(イオン的固定)樹脂、またはc)低架橋度(≦2%)であるが、それが持つスルホン酸基の1〜25モル%がアルキル-SH基単位(イオン的固定)を持つ化合物で覆われている樹脂のいづれかからなることを特徴とする、ゲル状またはマクロポーラス状スルホン酸型イオン交換樹脂を柱状の固定床反応器に充填した、フェノールとアセトンからビスフェノールAを製造するための固定床反応器の容積/時間収率を増加させるためのイオン交換樹脂床。
請求項(抜粋):
a) 下層部が低架橋度(≦2%)の樹脂からなり、そして樹脂床全体容積の75%〜85%を占めb)該樹脂床全体容積の15%〜25%を占める上層部が、より高度の架橋度(≧2%≦4%)を持ち、さらにそれが持つスルホン酸基の1〜25モル%がアルキル-SH単位を持つ化合物で覆われていてもよい(イオン的固定性)樹脂からなるか、またはc)低架橋度(≦2%)であるが、それが持つスルホン酸基の1〜25モル%がアルキル-SH基単位(イオン的固定)を持つ化合物で覆われている樹脂からなる、ことを特徴とする、ゲル状またはマクロポーラス状スルホン酸型イオン交換樹脂を円筒状の固定床反応器に充填した、フェノールとアセトンからビスフェノールAを製造するための固定床反応器の容積/時間収率を増加させるためのイオン交換樹脂床。
IPC (4件):
B01J 31/10 ,  C07C 37/20 ,  C07C 39/16 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (2件)

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