特許
J-GLOBAL ID：200903006299951905
ポジ型ホトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-282823
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134402
出願日： 1993年11月11日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【構成】 アルカリ可溶性樹脂及びキノジアジド基含有化合物を、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートを主成分とする有機溶剤に溶解して、ポジ型ホトレジスト組成物としたものである。【効果】 感光性成分の析出がなくて塗膜性、保存安定性がよく、しかもプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成することができるポジ型ホトレジスト組成物であって、特にハーフミクロンの微細加工を必要とする半導体デバイス製造用として好適である。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド基含有化合物を、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートを主成分とする有機溶剤に溶解して成るポジ型ホトレジスト組成物。
IPC (2件)：
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