特許
J-GLOBAL ID：200903006300782365
気密高周波窓の膜厚測定方法及びその気密高周波窓
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田澤 博昭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-294831
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267901
出願日： 1991年10月16日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 誘電体円板表面の薄膜の膜厚を測定するための気密高周波窓の膜厚測定方法及びその方法に適した気密高周波窓を得る。【構成】 ネットワークアナライザ5に励振及び検出用のプローブ6a,6bを接続し、気密高周波窓内部をゴーストモード周波数で励振して共振状態と成し、そのときの誘電体円板3表面の薄膜4によるQ値の減少を測定し、その測定値を膜厚に換算する。【効果】 気密高周波窓の組立後でも測定を精度良く行うことができる。
請求項（抜粋）：
方形導波管の間に円形導波管が配され、この円形導波管の内部に誘電体円板が気密に封止されて配され、この誘電体円板の表面に高周波放電を抑制するための薄膜を設けて成る気密高周波窓において、上記誘電体円板の近傍を所定のゴーストモード周波数の高周波により励振して共振状態と成し、この共振状態におけるQ値を測定し、この測定値を上記薄膜の膜厚に換算するようにした気密高周波窓の膜厚測定方法。
IPC (2件)：
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