特許
J-GLOBAL ID:200903006303076534

低レベル放射性雑固体廃棄物減容処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 関 正治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-238677
公開番号(公開出願番号):特開2002-048897
出願日: 2000年08月07日
公開日(公表日): 2002年02月15日
要約:
【要約】【課題】 低レベル放射性雑固体廃棄物について、高密度でスラグの強度が高い溶融減容廃棄体を製造する方法を提供する。【解決手段】 雑固体廃棄物の溶融物を受容器1に充填し冷却し金属層6とスラグ層7に分別形成された溶融物の凝固後に受容器1ごとドラム缶に装入し固定材を充填固化して廃棄体とする雑固体廃棄物減容処理方法において、溶融物中の金属が凝固するまでスラグの温度を高温に保つことによりスラグを低粘度に保ち凝固に伴い金属から放出されるガスがスラグ層を透過しやすくすることを特徴とする。
請求項(抜粋):
雑固体廃棄物の溶融物を受容器に充填し冷却し金属層とスラグ層に分別形成された溶融物の凝固後に受容器ごとドラム缶に装入し固定材を充填固化して廃棄体とする低レベル放射性雑固体廃棄物減容処理方法において、該溶融物中の金属が凝固するまでスラグの温度を高温に保つことによりスラグを低粘度に保ち凝固に伴い金属から放出されるガスがスラグ層を透過しやすくすることを特徴とする低レベル放射性雑固体廃棄物減容処理方法。
IPC (3件):
G21F 9/36 511 ,  G21F 9/36 ,  G21F 9/30 551
FI (3件):
G21F 9/36 511 A ,  G21F 9/36 511 L ,  G21F 9/30 551 A
引用特許:
審査官引用 (1件)

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