流体貯蔵および供給システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-554480
公開番号（公開出願番号）：特表2001-510546
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：

【要約】流体貯蔵および供給システム(10)は流体(17)を所望の圧力にて保持するための容器(12)を含む。この容器は所定の圧力に設定される圧力レギュレータ(26)を有する。このレギュレータは、内部または外部のいずれに位置決めされてもよく、単一段または多段のいずれでもよく、および容器のポートに関連づけられる。供給アセンブリは、たとえばバルブ(20)のような流量制御手段を含み、レギュレータ(26)との間でガス/蒸気を流通するよう構成され、それによって、バルブを開くとガス/蒸気が容器(12)から供給される。この容器内の流体は、たとえば環境温度(室温)のような一般的な温度条件にてその液化圧力を超える圧力で容器内に閉じ込められる液体によって構成されてもよい。

請求項（抜粋）：

流体貯蔵および供給システムであって、流体を保持するための内部容積を封じ込める流体貯蔵および供給容器を含み、前記容器は流体流通ポートを含み、前記流体貯蔵および供給システムはさらに、前記ポートとの間で流体の流れを流通させるよう結合される流体供給アセンブリと、前記ポートに関連づけられ、前記容器の前記内部容積内の流体に由来する、前記容器から放出されるガスの所定の圧力を維持するよう配される流体圧力レギュレータとを含み、前記流体供給アセンブリは、前記容器の前記内部容積にある流体に由来するガスを、前記流体圧力レギュレータおよび流体供給アセンブリを介して、前記容器から放出するために流すよう選択的に作動可能な流量制御要素を含み、したがって、前記放出中のガスは前記流量制御要素を通って流れる前に前記流体圧力レギュレータを通って流れる、流体貯蔵および供給システム。

IPC (6件)：

F17C 13/00 301 , F17C 7/00 , F17C 13/02 301 , H01L 21/205 , H01L 21/265 603 , H01L 21/306

FI (6件)：

F17C 13/00 301 A , F17C 7/00 A , F17C 13/02 301 A , H01L 21/205 , H01L 21/265 603 A , H01L 21/306 J

引用特許：

審査官引用 (1件)

弁装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-121740 出願人：昭和炭酸株式会社, 株式会社大東バルブ製作所

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