特許

J-GLOBAL ID：200903006305747479

工業装置に付着した残存物の洗浄方法

発明者： 遠藤 賢史 ,  菅間 直樹 ,  清水 茂 ,  斉藤 隆司 ,  高柳 恭之
出願人/特許権者： 日東化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-025733
公開番号（公開出願番号）：特開平10-183191
出願日： 1997年01月27日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：

【要約】【目的】 ボイラ、工業プラントにおける工業装置に付着した残存物に対する洗浄能力が高く、常温での洗浄処理が可能であり、腐食性がなく、しかも廃水処理が不要な洗浄溶剤を用いる付着残存物の洗浄方法の提供。【構成】 工業装置等に付着した残存物に、SP値が7.5〜13.0である有機溶剤から選ばれた少なくとも一種の有機溶剤(A)を有効成分として含む洗浄溶剤を用いて溶解剥離除去することを特徴とする付着残存物の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

工業装置に付着した残存物を、溶解度パラメーターδs [cal1/2/cm3/2]が7.5〜13.0である有機溶剤から選ばれる少なくとも一種の有機溶剤(A)を有効成分とする洗浄溶剤を用いて溶解剥離除去することを特徴とする付着残存物の洗浄方法。

IPC (5件)：

C11D 7/50 ,  B08B 3/08 ,  C02F 5/00 620 ,  C02F 5/10 620 ,  C23G 5/032

FI (5件)：

C11D 7/50 ,  B08B 3/08 A ,  C02F 5/00 620 A ,  C02F 5/10 620 F ,  C23G 5/032