特許
J-GLOBAL ID：200903006311710870
基板処理方法および基板処理ユニット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-140809
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326569
出願日： 1994年05月30日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】 基板表面への表面改質用処理液の供給と裏面洗浄とを生産性良く行い、ユニットのコンパクト化も図る。【構成】 回転軸2に連結された回転台5はモータ4により水平回転される。回転台5の上面には、回転台5上面から所定間隔隔てて基板Wを支持する複数個の基板支持部材6が設けられ、基板Wは表面を下方に向けて基板支持部材6に支持される。基板Wの上方には各種の洗浄機構20、30、40が設けられ、表面処理液供給源16から管14、三方バルブ13、管11を経た表面処理液を噴射させるノズル12が基板Wの下方に向けて臨んでいる。基板Wを回転させながら基板裏面を洗浄機構20、30、40で洗浄し、それと並行してノズル12から表面処理液が基板表面に供給される。
請求項（抜粋）：
感光性樹脂が塗布された露光前の基板の表面に表面改質用処理液を供給する処理と、その基板の裏面の洗浄処理とを含む基板処理方法であって、処理室内で前記基板を回転させながら、前記基板の裏面の洗浄処理を行っている間に、表面改質用処理液を前記基板の表面に供給することを特徴とする基板処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/26
, G03F 7/38 501
