肌ケア装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-024627
公開番号（公開出願番号）：特開2003-159305
出願日： 2002年01月31日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：

【要約】【課題】マイナスイオンを利用して効果的な肌のケアが行える肌ケア装置を提供することを課題とする。【解決手段】顔、手首、肘または膝、頭皮などの肌表面の手入れを行う肌ケア装置である。これにおいてマイナスイオン発生装置を具備し、マイナスイオン発生装置によって発生したマイナスイオンを前記肌表面の手入れと無関係または並行して前記肌表面に放出させるように構成する。

請求項（抜粋）：

顔、手首、肘または膝、頭皮などの肌表面の手入れを行う肌ケア装置において、マイナスイオン発生装置を具備し、マイナスイオン発生装置によって発生したマイナスイオンを前記肌表面の手入れと無関係または並行して前記肌表面に放出させるように構成したことを特徴とする肌ケア装置。

IPC (13件)：

A61H 33/12 , A45D 1/00 509 , A45D 1/18 , A45D 19/00 , A45D 20/12 , A45D 20/50 , A45D 44/22 , A46B 15/00 , A61H 23/02 341 , A61H 23/02 386 , A61H 35/00 , H01T 19/04 , H01T 23/00

FI (13件)：

A61H 33/12 V , A45D 1/00 509 Z , A45D 1/18 B , A45D 19/00 Z , A45D 20/12 Z , A45D 20/50 , A45D 44/22 F , A46B 15/00 Z , A61H 23/02 341 , A61H 23/02 386 , A61H 35/00 K , H01T 19/04 , H01T 23/00

Fターム (30件)：

3B040CK00 , 3B202AA11 , 3B202AB24 , 3B202BA15 , 3B202BA16 , 3B202BB06 , 3B202BB08 , 3B202CA02 , 3B202EB18 , 3B202EE01 , 3B202EE03 , 3B202EF01 , 3B202FA11 , 3B202FB10 , 3B202GA01 , 4C074AA03 , 4C074AA05 , 4C074BB01 , 4C074CC01 , 4C074DD01 , 4C074DD05 , 4C074GG01 , 4C074GG07 , 4C074HH03 , 4C094AA02 , 4C094AA04 , 4C094DD08 , 4C094DD32 , 4C094EE02 , 4C094GG06

引用特許：

審査官引用 (6件)

超音波美肌装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-067338 出願人：ヤーマン株式会社
足浴器
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-166017 出願人：松下電工株式会社
育毛ブラシ
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-323769 出願人：松下電器産業株式会社

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