特許

J-GLOBAL ID：200903006327737167

セルロースアシレートフイルム,偏光板及び製膜方法

発明者： 寺山 政春
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小林 和憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-122584
公開番号（公開出願番号）：特開2002-317059
出願日： 2001年04月20日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】 フイルムの透明性を損なうことなく搬送性,耐傷性を良好にする。【解決手段】 塩化メチレンに平均粒径0.5μmの二酸化珪素を0.7重量%溶解しマット剤溶液16を調製する。セルローストリアセテートと塩化メチレンなどからなるドープ12にマット剤溶液16を混合し流延ダイ15からベルト20上に流延する。乾燥機22や乾燥ゾーン24で乾燥した後にセルローストリアセテートフイルム21を得る。このフイルムは、550nmでの透過率が92.4%と透明性が損なわれず、フイルム面間の静摩擦係数が0.6となり搬送性,耐傷性にも優れている。

請求項（抜粋）：

セルロースアシレートを溶剤に溶解した溶液を流延して製膜されたセルロースアシレートフイルムにおいて、前記セルロースアシレートフイルム中のマット剤含有率を0.03〜0.15重量%にしたことを特徴とするセルロースアシレートフイルム。

IPC (7件)：

C08J 5/18 CEP ,  B29C 41/28 ,  C08K 3/36 ,  C08L 1/12 ,  G02B 5/30 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00

FI (7件)：

C08J 5/18 CEP ,  B29C 41/28 ,  C08K 3/36 ,  C08L 1/12 ,  G02B 5/30 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00

Fターム (25件)：

2H049BA02 ,  2H049BB49 ,  2H049BC09 ,  4F071AA09 ,  4F071AB26 ,  4F071AE19 ,  4F071AF27Y ,  4F071AF28Y ,  4F071AF30Y ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC10 ,  4F205AA01A ,  4F205AB11 ,  4F205AB17 ,  4F205AE08 ,  4F205AG01 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC07 ,  4F205GE24 ,  4J002AB021 ,  4J002DJ016 ,  4J002FA086