特許
J-GLOBAL ID:200903006330930113

電解用電極基体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森 浩之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-218169
公開番号(公開出願番号):特開平7-054182
出願日: 1993年08月09日
公開日(公表日): 1995年02月28日
要約:
【要約】【目的】 従来から電極基体を保護するための障壁である中間層を基材と電極物質相間に形成することが試みられている。しかしいずれも欠陥があり、満足できる性能の障壁を有する電極が要請されていた。本発明は、高電流密度で主として酸素発生反応に使用する耐久性と耐フッ素性を有しかつ電流逆転に対する耐性を有する電極基体とその製造方法を提供することを目的とする。【構成】 金属基材上に金属チタンと酸化チタンとを含む部分酸化物である厚さ50から200 μmの溶射層を形成する。該溶射層は電解時に陽極で発生する酸素イオンの移動を防止し不働態化を遅らせて電極寿命を長くする。更に前記部分酸化物は酸素不足により導電性酸化物となり、その結果良好な耐ハロゲン性及び逆電流耐性が得られる。
請求項(抜粋):
予め粗面化した導電性金属基材上に、金属チタン及び酸化チタンとを含む部分酸化物である厚さ50から200 μmの溶射層を形成したことを特徴とする電解用電極基体。
IPC (4件):
C25C 7/02 ,  C23C 4/04 ,  C25B 11/10 ,  C25D 17/10 101
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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