特許
J-GLOBAL ID:200903006332737302
レジストストリッピング法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
社本 一夫 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-533792
公開番号(公開出願番号):特表2002-505448
出願日: 1999年02月01日
公開日(公表日): 2002年02月19日
要約:
【要約】パターン化されたレジストを印刷配線板の製造の間に基板の表面から除去する方法を開示する。本方法には、そのパターン化されたレジストを、アルカリ供給源並びにアンモニウムイオンの供給源を含有するストリッピング溶液と接触させる工程が含まれる。そのストリッピング溶液は、揮発性有機化合物(VOC)類を含有しないという点に特徴がある。
請求項(抜粋):
パターン化されたレジストを基板から除去する方法であって; a)パターン化されたレジストを表面に有する基板を提供する工程; b)アンモニウムイオンの供給源を含む、VOCを含まないレジストストリッピング溶液を提供する工程;及び c)該基板を、パターン化されたレジスト全てを該表面から除去するのに充分な時間、該ストリッピング溶液に曝す工程を含んでなる方法。
IPC (3件):
G03F 7/42
, H05K 3/06
, H05K 3/18
FI (3件):
G03F 7/42
, H05K 3/06 C
, H05K 3/18 D
Fターム (19件):
2H096AA26
, 2H096LA03
, 5E339AB02
, 5E339AD01
, 5E339AD03
, 5E339BC02
, 5E339CG04
, 5E339FF10
, 5E339GG10
, 5E343AA02
, 5E343AA12
, 5E343BB24
, 5E343CC44
, 5E343CC46
, 5E343CC50
, 5E343CC52
, 5E343EE02
, 5E343EE17
, 5E343GG20
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