特許

J-GLOBAL ID：200903006351486507

蒸着膜形成方法

発明者： 田島 基史 ,  中井 健人 ,  櫻井 芳昭
出願人/特許権者： 株式会社クボタ ,  ホーチキ株式会社 ,  大阪府
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外10名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-192165
公開番号（公開出願番号）：特開平11-036062
出願日： 1997年07月17日
公開日（公表日）： 1999年02月09日
要約：

【要約】【課題】同一基板上に複数の異なる蒸着膜を形成するための簡便な方法であって、特に、複数の微小な感応膜を形成したガスセンサを高精度に形成するために適した方法を提供する。【解決手段】基板の蒸着膜形成部上に、開口部を有する蒸着物質遮断用マスクの開口部を位置合わせし、該マスクを介して蒸着膜を析出させ、次いで、該マスクを移動させて他の蒸着膜形成部にマスク開口部の位置合わせし、蒸着材料を変更し、該マスクを介して他の蒸着膜を析出させる工程を所定回数行い、その後、析出した蒸着膜の最終的に蒸着膜を残存させるべき部分にレジスト膜を形成した後、不要部分の蒸着膜をエッチングし、レジスト膜を除去することを特徴とする蒸着膜形成方法。

請求項（抜粋）：

基板の蒸着膜形成部上に、開口部を有する蒸着物質遮断用マスクの開口部を位置合わせし、該マスクを介して蒸着膜を析出させ、次いで、該マスクを移動させて他の蒸着膜形成部にマスク開口部の位置合わせし、蒸着材料を変更し、該マスクを介して他の蒸着膜を析出させる工程を所定回数行い、その後、析出した蒸着膜の最終的に蒸着膜を残存させるべき部分にレジスト膜を形成した後、不要部分の蒸着膜をエッチングし、レジスト膜を除去することを特徴とする蒸着膜形成方法。