特許

J-GLOBAL ID：200903006354406474

ポリ塩素化ジベンゾジオキシン及び/又はポリ塩素化ジベンゾフランで汚染された固体の汚染除去方法

発明者： アレクサンダー メラー ,  ウルリヒ シェルベルト ,  マンフレート ヴェック ,  フーベルトゥス アイックホフ
出願人/特許権者： デグッサ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-102518
公開番号（公開出願番号）：特開平8-001131
出願日： 1995年04月26日
公開日（公表日）： 1996年01月09日
要約：

【要約】【目的】 ポリ塩素化ジベンゾジオキシン(PCDD)及び/又はジベンゾフラン(PCDF)で汚染された固体の汚染を除去する方法。【構成】 汚染された固体を、過酸化水素含有ガスを用いて、又は過酸化水素含有水溶液を用いて処理し、その際、H2O2含有ガスを、汚染された固体上に導通させるか、又はこれをH2O2-水溶液と接触させる。【効果】 非常に簡単な方法で汚染を除去することができ、かつ70〜ほぼ100%の分解率が達成される。

請求項（抜粋）：

ポリ塩素化ジベンゾジオキシン(PCDD)及び/又はポリ塩素化ジベンゾフラン(PCDF)で汚染された固体から汚染を除去する方法において、汚染された固体を、過酸化水素含有ガスと、又は一連のH2O2-水溶液又は過炭酸ナトリウムの水溶液から選択された過酸化水素含有水溶液と、PCDD及びPCDFの酸化下で汚染除去が効果的に達成されるまで相互に接触させることを特徴とする、ポリ塩素化ジベンゾジオキシン(PCDD)及び/又はポリ塩素化ジベンゾフラン(PCDF)で汚染された固体の汚染除去方法。

IPC (3件)：

B09B 3/00 ,  B09B 3/00 ZAB ,  A62D 3/00 ZAB

FI (2件)：

B09B 3/00 304 ,  B09B 3/00 ZAB