特許
J-GLOBAL ID：200903006361093651
光マスク及びその製造方法並びに露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-092100
公開番号（公開出願番号）：特開平5-265187
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 連続的ないし微細なステップで変化する光透過率の分布状態を有する領域を任意な形状で有する光マスク、及びかかる光マスクを効率的に量産できる製造方法、並びに光強度が微妙に制御された露光処理を一度の露光操作で行える露光装置を得ること。【構成】 透明基材(11)の上に、光透過率の制御物質からなる凸形の厚さ変化を有する蒸着層(12)を有する光マスク(1)、及び開孔を有するマスクを透明基材に対し間隙を設けて配置し、そのマスク側より光透過率の制御物質を蒸着させる前記光マスクの製造方法、並びに前記光マスクを有する露光装置。
請求項（抜粋）：
透明基材の上に、光透過率の制御物質からなる凸形の厚さ変化を有する蒸着層を有することを特徴とする光マスク。
IPC (2件)：
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