特許

J-GLOBAL ID：200903006361186838

高度浄水処理装置

発明者： 澤田 繁樹 ,  住田 一郎 ,  有賀 久道
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-156033
公開番号（公開出願番号）：特開平11-347551
出願日： 1998年06月04日
公開日（公表日）： 1999年12月21日
要約：

【要約】【課題】 膜分離工程の前段にオゾン酸化工程を設ける高度浄水処理装置において、高度処理対象物のトリハロメタン前駆物質であるフミン酸等の有機成分とマンガンを含む原水をより効果的に処理する。【解決手段】 オゾン接触手段として、充填材を用いた第1のオゾン接触手段と、この下流側に設けた充填材を用いない第2のオゾン接触手段とを設ける。

請求項（抜粋）：

マンガンと有機成分を含む水をオゾン接触手段及び膜分離装置に通水して処理する高度浄水処理装置であって、該オゾン接触手段として、充填材を用いた第1のオゾン接触手段と、該第1のオゾン接触手段の下流側に配置された、充填材を用いない第2のオゾン接触手段とを備え、前記膜分離装置は該第1のオゾン接触手段の下流側に配置されていることを特徴とする高度浄水処理装置。

IPC (7件)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/16 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 504

FI (8件)：

C02F 1/44 K ,  B01D 61/16 ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 G ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 504 E