特許
J-GLOBAL ID：200903006367995355
位置決め装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-107473
公開番号（公開出願番号）：特開平6-302498
出願日： 1993年04月09日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：
【要約】【目的】 ウエハを載置するXYステージの位置決めを高精度に行うことのできる位置決め装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法を得ること。【構成】 ウエハを載置するXYステージの一部に設けた、ミラーにレーザ干渉計からのレーザ光を入射させ、該ミラーを介したレーザ光を利用して該XYステージの位置決めを制御手段で制御する際、該レーザ干渉計から該ミラーに至る光路中に該光路中の各領域での温度を測定する為に設けた複数の温度測定手段、該XYステージが収納されているチェンバ内の気圧を測定する為に設けた気圧測定手段で得られる測定値を参照して該制御手段により該XYステージの位置決めを制御していること。
請求項（抜粋）：
位置合わせすべき物体を載置し、XY平面内で移動するXYステージの一部にミラーを設け、該ミラーにレーザ干渉計からのレーザ光を入射させ、該ミラーを介したレーザ光を利用して該XYステージの位置決めを制御手段で制御する際、該レーザ干渉計から該ミラーに至る光路中に該光路中の各領域での温度を測定する為の複数の温度測定手段を設けると共に、該XYステージが収納されているチェンバ内の気圧を測定する為の気圧測定手段を設け、該温度測定手段と気圧測定手段で得られる測定値を参照して該制御手段により該XYステージの位置決めを制御していることを特徴とする位置決め装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 9/00
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 311 C
