特許
J-GLOBAL ID：200903006368519310
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-049994
公開番号（公開出願番号）：特開平6-243992
出願日： 1993年02月16日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 構造の大型化を防止するとともに簡単な構造によって応答性を向上させたインピーダダンスの整合が可能なプラズマ処理装置を提供することにある。【構成】 整合部14に設けられていて、RF電源部12側の出力インピーダンスと整合部14側の入力インピーダンスとの差を検出し、そのインピーダンスの差をなくすように上記RF電源部12側の出力電力の発信周波数を変更する。従って、可変コンデンサC1 の容量調整に代えて周波数変換が行なえるので、可変コンデンサおよび駆動部の省略が可能になり、整合時間を短縮することが可能になる。
請求項（抜粋）：
RF電源部からRF電力を負荷となる対向電極の一方あるいは両方に電力を供給する構造を備え、上記RF電源部側のインピーダンスと負荷側の入力インピーダンスとの差を検出して少なくとも可変容量を調整することで整合を行なうインピーダンス整合部を備えたプラズマ処理装置において、上記RF電源に設けられている出力電力の周波数可変部と、上記電源部および負荷側の間で検出されたインピーダンスの差に応じて、上記可変容量に併せて上記RF電源部での出力電力の周波数を制御して整合する制御部と、を備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, C23F 4/00
, H01L 21/302
