特許
J-GLOBAL ID:200903006381638620

有機物処理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉武 賢次 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-235275
公開番号(公開出願番号):特開2003-047997
出願日: 2001年08月02日
公開日(公表日): 2003年02月18日
要約:
【要約】【課題】 排ガス温度が比較的低い場合であっても、有機物スラリーの分解反応に適した温度を維持して、高い分解性能と有機物除去率を得られるようにする。【解決手段】 有機物処理システムは、水を含む有機物スラリーを酸化剤と超臨界水酸化反応させて分解するための反応装置1を備えている。スラリー供給手段2から反応装置1へ供給されるスラリーを排ガス3の熱で予熱するスラリー予熱器4と、酸化剤供給手段5から反応装置1へ供給される酸素を排ガス3の熱で予熱する酸化剤予熱器6とが設けられている。スラリーと酸素とをそれぞれ別個に予熱した上で反応装置1に送り込むことで、排ガス3の温度が比較的低い場合であっても、反応装置1内で有機物スラリーの分解反応に適した温度を維持することができる。
請求項(抜粋):
熱機関から放出される排ガスの熱を利用して、水と有機物とを含む有機物スラリーを処理するための有機物処理システムにおいて、前記スラリーを酸化剤と反応させて分解するための反応装置と、この反応装置に前記スラリーを供給するスラリー供給手段と、このスラリー供給手段から前記反応装置へ供給されるスラリーを前記排ガスの熱で予熱するスラリー予熱器と、前記反応装置に前記酸化剤を供給する酸化剤供給手段と、この酸化剤供給手段から前記反応装置へ供給される酸化剤を前記排ガスの熱で予熱する酸化剤予熱器とを備えたことを特徴とする有機物処理システム。
IPC (5件):
C02F 11/06 ,  B01J 3/00 ,  F02C 6/18 ,  F02G 5/02 ,  F02G 5/04
FI (6件):
C02F 11/06 A ,  C02F 11/06 B ,  B01J 3/00 A ,  F02C 6/18 Z ,  F02G 5/02 C ,  F02G 5/04 H
Fターム (11件):
4D059AA02 ,  4D059AA03 ,  4D059AA07 ,  4D059AA08 ,  4D059BC01 ,  4D059BC02 ,  4D059CA10 ,  4D059EA06 ,  4D059EA08 ,  4D059EB06 ,  4D059EB08

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