特許

J-GLOBAL ID：200903006388957844

地盤注入工法

発明者： 栢原 健二
出願人/特許権者： 強化土エンジニヤリング株式会社
代理人 (1件)： 染谷 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-036948
公開番号（公開出願番号）：特開平5-202513
出願日： 1992年01月29日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：

【要約】【目的】 水ガラスグラウトにおいて、アルカリの溶脱を極力減少して地下水のアルカリ性への移行をできる限り抑制するとともに、耐久性にも優れる地盤注入工法を得る。【構成】 一次注入材として水ガラス以外のシリカ化合物の水懸濁液を地盤中に注入し、二次注入材としてモル比=SiO2 のモル濃度/Na2 Oのモル濃度が2.0以下の水ガラスと反応剤とからなる水ガラスグラウトを地盤中に注入する。

請求項（抜粋）：

一次注入材と二次注入材を地盤中に注入する地盤注入工法において、一次注入材として水ガラス以外のシリカ化合物の水懸濁液を用い、二次注入材としてモル比=SiO2 のモル濃度/Na2 Oのモル濃度が2.0以下の水ガラスと反応剤とからなる水ガラスグラウトを用いることを特徴とする地盤注入工法。