特許
J-GLOBAL ID：200903006402555940
イオンビームスパッタ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
富田 和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-253224
公開番号（公開出願番号）：特開平6-101037
出願日： 1992年09月22日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：
【要約】【目的】膜厚分布の均一な膜の生成、複数元素の膜については、ターゲットの組成を再現することのできるイオンビームスパッタ装置を提供する。【構成】単一材料から構成されるスパッタターゲットを用いる場合、スパッタ粒子が最も多く飛び出す方向と、基板の法線方向とが一致する位置に、前記基板を配置する。複数の材料から構成されるスパッタターゲットを用いる場合、それぞれの材料のスパッタ粒子が最も多く飛び出す方向のいずれの方向とも、等しい角度にある方向に、基板の法線方向とが一致する位置に、前記基板を配置する。
請求項（抜粋）：
真空容器と、スパッタターゲットを保持するターゲットホルダと、前記スパッタターゲットにイオンビームを照射するイオン源と、前記スパッタターゲットから飛散したスパッタ粒子を堆積させる基板を保持するための基板ホルダとを有するイオンビームスパッタ装置において、前記基板ホルダを、前記スパッタターゲット面内の回転軸を中心として回転変位可能に指示する支持手段と、外部からの指示に応じて、前記基板ホルダを指示された位置まで変位させる駆動手段を有することを特徴とするイオンビームスパッタ装置。
引用特許：
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