特許

J-GLOBAL ID：200903006405170071

ビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法

発明者： 稲垣 亨 ,  谷岡 力夫 ,  図司 和夫
出願人/特許権者： 宇部興産株式会社
代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-240286
公開番号（公開出願番号）：特開平6-087775
出願日： 1992年09月09日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【構成】 フェノール類とアルデヒドを、不活性溶媒及び水からなる混合溶媒中で、ヘテロポリ酸又はその水溶性塩の存在下に反応させ、反応混合物の有機層からビス(ヒドロキシフェニル)メタン類を得、水相からヘテロポリ酸又はその水溶性塩を回収し、回収したヘテロポリ酸又はその水溶性塩を、フェノール類とアルデヒドの反応に再利用することを特徴とするビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法。【効果】 ヘテロポリ酸又はその塩の腐食性が少なく、また活性低下が小さく工業的に使用が容易であり、反応で副次的に生成した水で反応速度が低下することがない。またビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の中でも、エポキシ樹脂の特性を向上させるのに有用なビス(4-ヒドロキシフェニル)メタンの生成量を選択的に高めることができる。さらに、酸触媒であるヘテロポリ酸又はその塩を容易に分離回収することができ、次の反応に再利用することができる。

請求項（抜粋）：

フェノール類と脂肪族アルデヒド又は芳香族アルデヒドとを、不活性溶媒及び水からなる混合溶媒中で、ヘテロポリ酸又はその水溶性塩の存在下に反応させ、反応混合物の有機層から次式(I):【化1】(式中、R1 は、それぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、R2は水素原子、アルキル基、アリール基又はアラールキル基を表す)で示されるビス(ヒドロキシフェニル)メタン類を得、水相からヘテロポリ酸又はその水溶性塩を回収し、回収したヘテロポリ酸又はその水溶性塩を、フェノール類とアルデヒドの反応に再利用することを特徴とするビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法。

IPC (5件)：

C07C 39/16 ,  B01J 27/186 ,  C07C 37/20 ,  C07C 37/72 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-045439
  
• 特開昭63-303940
  
• 特開平1-016729
  
• 特開昭58-069827