特許

J-GLOBAL ID：200903006409488998

FSi(OR)3 の製造方法

発明者： 山口 隆市 ,  太附 聖 ,  町田 英明 ,  木曽 幸一 ,  三尋木 勝洋 ,  高松 勇吉
出願人/特許権者： 株式会社トリケミカル研究所
代理人 (1件)： 宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-140473
公開番号（公開出願番号）：特開平5-086070
出願日： 1991年06月12日
公開日（公表日）： 1993年04月06日
要約：

【要約】【目的】 高純度なFSi(OR)3 を簡単、かつ、低廉に得ることである。【構成】 Si(OR)4 とHFとを反応させるFSi(OR)3 の製造方法。

請求項（抜粋）：

Si(OR)4 とHFとを反応させることを特徴とするFSi(OR)3 の製造方法。

IPC (2件)：

C07F 7/04 ,  C07F 7/12