特許

J-GLOBAL ID：200903006409736533

電子線ナノメトロジー・システム

発明者： サミュエル・ケイ・ドラン ,  ウィリアム・エイ・エニヒェン ,  ティモシー・アール・グローヴズ ,  ロドニー・エイ・ケンドール ,  ヘンリー・エイ・ホフリー ,  リチャード・ディー・モア ,  ポール・エフ・ペトリック ,  ジェームズ・ディー・ロックロア
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-139038
公開番号（公開出願番号）：特開平8-022795
出願日： 1995年06月06日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】基板の限界寸法が0.1〜0.5μmである基板表面上のパターン測定用電子線ナノメトロジー・ツールを提供する。【構成】加工物22を載せる可動ステージ30,32は、加工物の表面をビーム調査領域で位置決めする。静電焦点レンズが、常温電子源12から放出される電子を、ビーム調査領域に焦点のあるビーム70に変換し、加工物の表面に直角な経路をたどらせる。このビーム経路に沿って、上部及び下部静電偏向板72,74があり、それに逆方向の連成直流電位を印加する調節式電圧源80,80′が接続されている。この電位により、ビームが加工物の表面にほぼ直角のままである間にビーム調査領域を横切るビームの走査が可能になり、そのため表面フィーチャのより正確な測定が可能になる。この測定ツール内部で、すべてのビーム制御表面は静電式であり、したがって電力散逸と温度差が最小に抑えられる。

請求項（抜粋）：

加工物の活動パターン・アレイ内のパターン・フィーチャの位置測定を行うための電子線ナノメートル・レベル・測定ツールであって、常温電子源と、測定される物理的フィーチャを表面に備えた加工物を装着し、かつ前記加工物の表面をビーム調査領域に位置決めするための可動ステージ手段と、前記電子源から放出される電子を、前記ビーム調査領域内に焦点をもつ電子線に変換して、前記加工物に対してほぼ直角な前記ビーム調査領域への経路をたどらせるための、静電合焦手段と、前記ビームがたどる前記経路内にある、上部及び下部静電偏向手段と、逆方向の直流電位を前記の上部及び下部静電偏向手段に印加して、前記ビームが前記加工物の表面に対してほぼ直角のままの状態で前記ビーム調査領域を横切るように前記ビームの走査を可能にする、調節式電圧手段と、前記ビームと前記加工物の表面との相互作用から前記加工物の表面の測定値を決定する手段とを備える測定ツール。

IPC (7件)：

H01J 37/28 ,  G01B 15/00 ,  H01J 37/073 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/244

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-004548
  
• 特開昭52-124873
  
• 特開昭62-119847