特許
J-GLOBAL ID：200903006426338193
電子線照射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
半田 昌男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-127889
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317700
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】【目的】 低エネルギー電子線を用いて表面処理を効率良く行うことができる電子線照射装置を提供する。【構成】 電子線照射装置をたとえば表面殺菌等に使用する場合には、加速電圧を90〜150kV、電流密度を0.01〜0.4mA/cmの範囲内の値に設定する。加速電圧を90kV以上とすれば、電子線を効率良く照射室20内に取り出し、被処理物の表面層において十分な線量を得ることができる。しかも、電流密度を0.40mA/cm以下とすれば、窓箔32の温度をその耐熱温度以下に抑えることができる。
請求項（抜粋）：
線状の陰極から放出された熱電子を電子線として取り出し、前記電子線を加速する電子線発生部と、被処理物に前記電子線を照射する照射室と、前記電子線発生部内の真空雰囲気と前記照射室内の照射雰囲気とを仕切ると共に前記電子線を透過させる金属箔とを備える電子線照射装置において、前記電子線発生部で前記電子線を加速する加速電圧を90kV〜150kVの範囲内の値とし、且つビーム電流を電子線有効照射幅で割った値である電流密度を0.01mA/cm〜0.40mA/cmの範囲内の値としたことを特徴とする電子線照射装置。
IPC (2件)：
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