特許
J-GLOBAL ID:200903006432687728
ステージ装置及び露光装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大森 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-331045
公開番号(公開出願番号):特開2005-101136
出願日: 2003年09月24日
公開日(公表日): 2005年04月14日
要約:
【課題】 比較的簡単な構成で駆動機構のような熱源で発生する熱の影響を軽減する。【解決手段】 レチクルのパターンが投影光学系を介してウエハW上に転写される。ウエハWは、ウエハホルダ25を介してウエハテーブルWTB上に保持され、ウエハテーブルWTBは、Z・チルト駆動機構38を介して天板30Aの底面の支持部に支持されている。天板30Aの底面に設けられたX可動子32Xと、ガイド面に沿って配置された電機子ユニット60を含むX軸リニアガイド34Xとから、ウエハテーブルWTBを駆動するリニアモータ36Xが構成されている。電機子ユニット60からの放射熱を遮断するために、ウエハテーブルWTBの底面に高反射率の反射膜71を設ける。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
物体を保持する試料台をガイド面に沿って移動するステージ装置において、
前記試料台の前記物体の載置面の裏面の少なくとも一部に低放射率処理が施されていることを特徴とするステージ装置。
IPC (3件):
H01L21/027
, G03F7/20
, H01L21/68
FI (3件):
H01L21/30 515G
, G03F7/20 521
, H01L21/68 K
Fターム (24件):
5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031HA53
, 5F031JA01
, 5F031JA05
, 5F031JA17
, 5F031JA28
, 5F031JA32
, 5F031JA38
, 5F031JA46
, 5F031KA06
, 5F031KA07
, 5F031KA08
, 5F031LA03
, 5F031LA04
, 5F031LA07
, 5F031LA08
, 5F031MA27
, 5F031MA33
, 5F031NA04
, 5F031PA11
, 5F046CC01
, 5F046CC18
, 5F046CC20
引用特許:
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