特許

J-GLOBAL ID：200903006435592108

構造体を用いた薄膜パターン製造方法および構造体

発明者： 篠浦 治
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-278829
公開番号（公開出願番号）：特開2003-086537
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月20日
要約：

【要約】【課題】 簡便、安価な薄膜パターンの製造方法を提供する。【解決手段】 透明な材料により構成され、表面に凹凸形状のパターンが形成された部材を有する構造体により単分子膜パターンを基体に転写する工程を含むことを特徴とする薄膜パターン製造方法であり、透明な材料により構成された構造体を用いることにより構造体を通して基体上のアライメントマークを観察することで正確な位置あわせを行うことができる。また、構造体として、透明な材料により構成され、表面に凹凸形状のパターンが形成された部材と、透明な基板を有する構造体を用いても正確な位置あわせを行うことができる。

請求項（抜粋）：

透明な材料により構成され、表面に凹凸形状のパターンが形成された部材を有する構造体により単分子膜パターンを基体に転写する工程を含むことを特徴とする薄膜パターン製造方法。

Fターム (6件)：

5F046AA28 ,  5F046EA02 ,  5F046EA04 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046ED01