電子ビーム露光方法および露光装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-173388
公開番号（公開出願番号）：特開平6-302506
出願日： 1993年07月13日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：

【要約】【目的】ブランキングアパーチャアレイを使った電子ビーム露光方法において、所定のピッチで縦横に配列した露光ドットにより露光パターンを露光する際に、露光パターンのエッジを前記所定のピッチよりも細かい精度で制御でき、かつ高いスループットで露光できる露光方法を提供することを目的とする。【構成】単一の電子ビームを整形して、前記所定のピッチで配列した複数の電子ビーム要素よりなるN群の電子ビーム群を、隣接した電子ビーム群間で前記電子ビーム要素がMをNより小さい任意の整数として、相互に1/Nピッチずれるように形成する。

請求項（抜粋）：

単一の電子ビームを整形して複数の電子ビーム要素よりなる電子ビームパターンを形成するビーム整形工程と、物体上に所定露光パターンを、前記電子ビームパターンを構成する複数の電子ビーム要素の照射により、所定のピッチで配列した露光ドットの集合として描画する露光工程とを含む電子ビーム露光方法において、前記ビーム整形工程は、前記複数の電子ビーム要素を、前記単一の電子ビームを整形することにより、各々第1の方向に整列しまた前記第1の方向に対して直角な第2の方向に繰り返し形成される相互に平行な電子ビーム要素の集合よりなる複数の電子ビーム群として、また前記複数の電子ビーム要素の各々が同時に形成されるように形成する工程を含み、その際、異なった電子ビーム群間では、電子ビーム要素が、Nを電子ビーム群の数を表す整数、MをNより小さい任意の整数として、少なくとも前記第1の方向および第2の方向のいずれか一方の方向に相互にM/Nピッチだけずれていることを特徴とする電子ビーム露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭62-061328
特開昭63-314832

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