特許

J-GLOBAL ID：200903006447967093

スチレン系重合体および共重合体の製造方法

発明者： 渡辺 正美 ,  町田 修司
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-064853
公開番号（公開出願番号）：特開平5-097927
出願日： 1992年03月23日
公開日（公表日）： 1993年04月20日
要約：

【要約】【目的】 シンジオタクチック構造を有するアリールスチレン系重合体および共重合体を効率よく製造する方法を開発すること。【構成】 チタン化合物等の遷移金属化合物成分および該遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化合物成分を含む触媒を用いて、例えばp-フェニルスチレン等のアリールスチレン系重合体および共重合体を製造する方法である。

請求項（抜粋）：

アリール置換基を有するスチレン系モノマーあるいは該アリール置換基を有するスチレン系モノマーと他のスチレン系モノマーを含有するスチレン系モノマーを、(A)遷移金属化合物および(B)該遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化合物を主成分とする触媒の存在下で重合もしくは共重合することを特徴とするシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体もしくはスチレン系共重合体の製造方法。

IPC (6件)：

C08F 12/14 MJY ,  C08F 4/64 MFH ,  C08F 12/14 MJT ,  C08F 30/02 MNS ,  C08F 30/04 MNT ,  C08F 30/08 MNU

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-124706