特許

J-GLOBAL ID：200903006457251584

洗浄装置及び洗浄方法

発明者： 宮川 拓也
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 岡▲崎▼ 信太郎 ,  新井 全
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-200481
公開番号（公開出願番号）：特開2005-040663
出願日： 2003年07月23日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：

【課題】被洗浄物の被処理面の表面粗さを抑制しつつ被洗浄物を洗浄することができる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】洗浄液26を用いて被洗浄物33を洗浄する洗浄手段25,27と、純水17に炭酸ガス13を混入させ、pH値が3.0以上7.0未満のリンス液19とするリンス液生成手段11,15と、洗浄手段25,27による洗浄後の被洗浄物33をリンス液19にさらすリンス手段23とを備えることを特徴とする洗浄装置100及び洗浄方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

洗浄液を用いて被洗浄物を洗浄する洗浄手段と、 純水に炭酸ガスを混入させ、pH値が3.0以上7.0未満のリンス液とするリンス液生成手段と、 洗浄後の前記被洗浄物を前記リンス液にさらすリンス手段と を備えることを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

B08B3/08 ,  B08B3/02 ,  H01L21/304

FI (4件)：

B08B3/08 Z ,  B08B3/02 B ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647Z

Fターム (10件)：

3B201AA03 ,  3B201AA46 ,  3B201AB23 ,  3B201AB34 ,  3B201AB48 ,  3B201BB22 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201BB98 ,  3B201CC01