特許
J-GLOBAL ID：200903006458415920
キナクリドン顔料製造のための酸化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-221866
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230384
出願日： 1992年08月21日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】キナクリドン、キナクリドン誘導体およびキナクリドン固溶体の顔料の製造方法において、(a)該キナクリドンまたはキナクリドン誘導体の6、13-ジヒドロキナクリドン前駆体を高められた温度において、少なくとも2重量%の酸素を含有する気体の有効酸化量、塩基、ジメチルスルホキシド、水および触媒量のキノン触媒の存在下において酸化し、(b)工程(a)において生成したキナクリドン塩の加水分解またはアルコール分解によってキナクリドン顔料を沈殿させ、(c)そのキナクリドン顔料を単離することを特徴とする方法。【効果】上記の方法によって、短い反応時間で高収率で目的キナクリドン顔料を得ることができる。
請求項（抜粋）：
キナクリドン、キナクリドン誘導体およびキナクリドン固溶体の顔料の製造方法において、(a)該キナクリドンまたはキナクリドン誘導体の6、13-ジヒドロキナクリドン前駆体を高められた温度において、少なくとも2重量%の酸素を含有する気体の有効酸化量、塩基、ジメチルスルホキシド、水および触媒量のキノン触媒の存在下において酸化し、(b)工程(a)において生成したキナクリドン塩の加水分解またはアルコール分解によってキナクリドン顔料を沈殿させ、そして(c)そのキナクリドン顔料を単離することを特徴とする方法。
IPC (3件)：
C09B 5/38
, C07B 33/00
, C07D471/04 112
