特許

J-GLOBAL ID：200903006471866320

システムLCD製造用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： 片野 彰 ,  宮城 賢 ,  舘 俊聡 ,  新倉 聡
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-159621
公開番号（公開出願番号）：特開2004-361638
出願日： 2003年06月04日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】高感度で高耐熱性の、システムLCD製造用として好適なポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を含有するポジ型ホトレジスト組成物であって、前記(A)成分が、下記一般式(I)で表されるフェノール化合物(a1)、及び下記一般式(II)で表されるフェノール化合物(a2)を含有する混合フェノール類と、アルデヒド類との縮合反応により合成されるノボラック樹脂であることを特徴とする、1つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成されたLCD製造用ポジ型ホトレジスト組成物。【化1】【化2】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を含有するポジ型ホトレジスト組成物であって、前記(A)成分が、下記一般式(I)

IPC (7件)：

G03F7/032 ,  C08G8/00 ,  C08G8/24 ,  G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

FI (7件)：

G03F7/032 ,  C08G8/00 Z ,  C08G8/24 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/022 ,  G03F7/38 ,  H01L21/30 502R

Fターム (28件)：

2H025AA01 ,  2H025AA10 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA27 ,  2H096BA10 ,  2H096BA20 ,  2H096DA01 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  4J033CA01 ,  4J033CA02 ,  4J033CA09 ,  4J033CA10 ,  4J033CA12 ,  4J033CA14 ,  4J033CA24 ,  4J033CA29 ,  4J033HB10