特許
J-GLOBAL ID：200903006473850137
ガス・デポジション法による微粒子膜の形成法およびその形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-223046
公開番号（公開出願番号）：特開平6-065757
出願日： 1992年08月21日
公開日（公表日）： 1994年03月08日
要約：
【要約】【目的】 基板との密着力が良好で、凝集体のない密度の向上した微粒子膜を基板上に形成するガス・デポジション法による微粒子膜の形成法と、その形成装置。【構成】 蒸発源で生成した微粒子をキャリアガスと共に基板上に搬送する際、直線状の搬送管を用いて直進状態で搬送する微粒子膜の形成法。微粒子生成室と膜形成室を結ぶ搬送管を蒸発源の上方と基板間を途中で曲りのない直線状としたガス・デポジション法による微粒子膜の形成装置。
請求項（抜粋）：
搬送管で微粒子をキャリアガスと共に搬送し、これを搬送管の先端のノズルより噴射して基板上に微粒子膜を形成するガス・デポジション法において、微粒子とキャリアガスを蒸発源と基板との間を直線状の搬送管で搬送することを特徴とするガス・デポジション法による微粒子膜の形成法。
引用特許：
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