特許
J-GLOBAL ID:200903006480051851

廃棄物の処理機構及び処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 辻本 一義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-316839
公開番号(公開出願番号):特開平7-171554
出願日: 1993年12月16日
公開日(公表日): 1995年07月11日
要約:
【要約】【目的】 蒸発濃縮が進行しても長時間にわたり安定した蒸発濃縮が効率的に行われ、また、加熱槽が廃棄物中の成分の作用により損傷を受け難い廃棄物の処理機構及び処理方法を提起すること。【構成】 この発明に係る廃棄物の処理機構は、比重が1より大であると共に沸点が水より高い加熱媒体を貯留する加熱槽と、処理すべき廃棄物を前記加熱媒体に供給する手段とを具備する。また、この発明に係る廃棄物の処理方法は、廃棄物を、比重が1より大の融解した加熱媒体中又は加熱媒体の液表面で加熱することにより、蒸発成分を蒸発させる。
請求項(抜粋):
比重が1より大であると共に沸点が水より高い加熱媒体を貯留する加熱槽と、処理すべき廃棄物を前記加熱媒体に供給する手段とを具備することを特徴とする廃棄物の処理機構。
IPC (3件):
C02F 1/04 ZAB ,  C02F 1/04 ,  C02F 1/02 ZAB
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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