特許
J-GLOBAL ID：200903006485800445
プロセス制御装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-372736
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189247
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：
【要約】【課題】 ウエハ等の微細加工を効率良く制御しうるプロセス制御装置を得る。【解決手段】 プロセス制御装置は、複数のロットに区分けされた製品に処理を施す処理装置によって処理された製品の処理結果から、処理装置の能力を評価する処理装置評価部14と、上記処理装置評価部によって評価された装置能力と複数のロットの特性とに基づいて、複数のロットから処理すべきロットを選択するロット選択部15とを備える。
請求項（抜粋）：
複数のロットに区分けされる被処理体(製品)に対して処理を行う処理装置のプロセス制御装置であって、前記処理装置によって処理された製品の処理結果から前記処理装置の能力を評価する処理装置評価手段と、前記処理装置評価手段によって評価された前記処理装置の能力と前記複数のロットの特性とに基づいて、前記複数のロットの中から処理すべきロットを選択するロット選択手段とを備える、プロセス制御装置。
IPC (3件)：
H01L 21/02
, G05B 19/418
, G06F 17/60
H01L 21/02 Z
, G05B 19/418 Z
, G06F 15/21 R
5B049AA02
, 5B049BB07
, 5B049CC21
, 5B049EE00
