特許

J-GLOBAL ID：200903006487089110

パターン検査装置,パターン検査装置の制御方法及びパターン検査装置用撮像器

発明者： 長谷部 暁子 ,  尾澤 和孝
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-149483
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340625
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：

【要約】【課題】 パターン検査の高速化及び高スループット化を実現しうるパターン検査装置を提供する。【解決手段】 パターン検査装置1は、ステージ14上に載置された半導体ウエハ50の表面を撮像して撮像結果に関するデータDを出力する撮像部11と、上記撮像結果に関するデータDを受信して上記表面の外観検査ないしはパターン検査に関する所定のデータ処理を実行するデータ処理部12とから成る検査部10を複数備える。更に、検査部10は撮像部11の移動を制御する移動機構(その制御部を含む)13を備えており、各検査部10は互いに独立に且つ同時に移動しうる。各検査部10がデータ処理部12を備えているので、従来の検査装置よりもデータ処理の時間を削減できる。検査部10a,10bは互いに独立に且つ同時に動作可能であるので、従来の検査装置よりもスキャン時間を削減できる。

請求項（抜粋）：

試料の表面に形成されたパターンの外観検査を行うパターン検査装置であって、前記表面を所定の検出感度で以て撮像して撮像結果に関するデータを出力する撮像部と、前記撮像結果に関するデータを受信して前記外観検査に関する所定のデータ処理を実行するデータ処理部とから成る検査部を複数備えることを特徴とする、パターン検査装置。

IPC (2件)：

H01L 21/66 ,  G01N 21/88

FI (2件)：

H01L 21/66 J ,  G01N 21/88 645 A

Fターム (29件)：

2G051AA51 ,  2G051AB20 ,  2G051BA00 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CD04 ,  2G051DA01 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051FA10 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106DB01 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DB08 ,  4M106DB11 ,  4M106DB13 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ01 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ23