特許

J-GLOBAL ID：200903006488711524

流動床式硝化方法及び装置

発明者： 大田 正男 ,  今村 泰夫 ,  戸河里 脩 ,  木村 隆志
出願人/特許権者： 千代田化工建設株式会社
代理人 (1件)： 久保田 藤郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-111799
公開番号（公開出願番号）：特開平10-286593
出願日： 1997年04月15日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 付加的エネルギーを必要とせずに、かつ運転停止などを引き起こすことなく、担体粒子の凝集を防止すると共に、効率良く担体粒子の凝集体を破壊し、硝化槽の効率を高め得る方法と装置の提供。【解決手段】 硝化菌を固定化した担体粒子を充填した硝化槽内に、窒素含有排水と酸素含有ガスを導入し、該担体粒子を上向流により流動化させて硝化を行う流動床式硝化方法において、該硝化槽内に、部分的に水の流動を速め得る絞り手段を設けたことを特徴とする流動床式硝化方法、並びに、排水供給口1と処理水排出口2を有し、硝化菌を固定化した担体粒子3を充填する流動床式硝化装置であって、該硝化装置内に、部分的に水の流動を速め得る絞り部Aを設けたことを特徴とする流動床式硝化装置。

請求項（抜粋）：

硝化菌を固定化した担体粒子を充填した硝化槽内に、窒素含有排水と酸素含有ガスを導入し、該担体粒子を上向流により流動化させて硝化を行う流動床式硝化方法において、該硝化槽内に、部分的に水の流動を速め得る絞り手段を設けたことを特徴とする流動床式硝化方法。

IPC (2件)：

C02F 3/34 101 ,  C02F 3/08 ZAB

FI (2件)：

C02F 3/34 101 D ,  C02F 3/08 ZAB B