特許
J-GLOBAL ID:200903006500478040

ITO膜除去用組成物及びこれを用いたITO膜除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-114900
公開番号(公開出願番号):特開2000-309888
出願日: 1999年04月22日
公開日(公表日): 2000年11月07日
要約:
【要約】【課題】 ITO膜を効率的に除去でき、且つ、ITO膜がメタルマスク等の金属上にある場合においても、実用上該金属を腐食させること無くITO膜を効率的に除去することのできるITO膜除去用組成物及びITO膜除去方法の提供。【解決手段】 必須の成分として塩酸0.5〜15重量%;燐酸及びカルボン酸からなる群から選ばれる1種以上の酸0.5〜15重量%;及び界面活性剤0.01〜5重量%を含有する水溶液から成ることを特徴とするITO膜除去用組成物。
請求項(抜粋):
必須の成分として塩酸0.5〜15重量%;燐酸及びカルボン酸からなる群から選ばれる1種以上の酸0.5〜15重量%;及び界面活性剤0.01〜5重量%を含有する水溶液から成ることを特徴とするITO膜除去用組成物。
IPC (4件):
C23F 1/00 103 ,  C09K 13/04 101 ,  C09K 13/06 101 ,  C23F 1/44
FI (4件):
C23F 1/00 103 ,  C09K 13/04 101 ,  C09K 13/06 101 ,  C23F 1/44
Fターム (12件):
4K057WA01 ,  4K057WA02 ,  4K057WB11 ,  4K057WB15 ,  4K057WE04 ,  4K057WE08 ,  4K057WE11 ,  4K057WE14 ,  4K057WG03 ,  4K057WM03 ,  4K057WM04 ,  4K057WM15

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