特許

J-GLOBAL ID：200903006506790542

水素シルセスキオキサンを用いた塗布剤

発明者： ローレン アンドリュー ハルスカ ,  キース ウィントン マイケル
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-036861
公開番号（公開出願番号）：特開平6-345417
出願日： 1994年03月08日
公開日（公表日）： 1994年12月20日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、サブストレートに塗膜を形成する方法及び塗布したサブストレートに関する。【構成】 この方法は、水素シルセスキオキサン樹脂及び充填剤を含む塗布組成物をサブストレートに塗布し、そして加熱して水素シルセスキオキサンをセラミック塗膜に転換するものである。この方法は、特に電子部品に対して塗膜を形成するのに有用である。

請求項（抜粋）：

水素シルセスキオキサン樹脂及び充填剤を含む塗布組成物をサブストレートに塗布し、そして塗布したサブストレートを50から1000°Cの温度において3時間以下加熱して塗布組成物をセラミック塗膜に変えることを含むサブストレートに塗膜を形成する方法。

IPC (2件)：

C01B 33/12 ,  C09D183/05 PMS

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-281511
  
• 特開平4-228415
  
• 特許第442632号