特許

J-GLOBAL ID：200903006520027207

反射防止膜の製造方法および反射防止膜

発明者： 川俣 健 ,  三田村 宣明 ,  池田 浩 ,  徳田 一成 ,  新田 佳樹 ,  豊原 延好 ,  生水 利明
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-170004
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015502
出願日： 1994年06月29日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 PVD法により、低屈折率のSiO2 またはAl2 O3 の膜を成膜する。【構成】 マグネトロンスパッタリング装置1は、直流電源2と高周波電源3とを有している。基板ホルダ4を載置するベース5は冷凍機6とつながっており、基板7を冷却できるように構成されている。

請求項（抜粋）：

基板温度を0°C以下に保ちつつPVD法により、屈折率1.44以下のSiO2 膜またはAl2 O3 膜を成膜することを特徴とする反射防止膜の製造方法。