特許

J-GLOBAL ID：200903006521595969

シリコンウエーハ及びこれを用いる定量測定法

発明者： 竹下 真理子
出願人/特許権者： 住友シチックス株式会社
代理人 (1件)： 森 正澄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-283914
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129523
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【目的】 シリコンウエーハ中の格子間酸素濃度及び置換型炭素濃度を結晶各位置の抜き取りサンプルを用いずに直接濃度測定ができるシリコンウエーハを製造することにより、煩雑な定量専用サンプル作製をすることなく、より信頼性の高い濃度値の添付された品質の安定したシリコンウエーハを提供する。【構成】厚みが731〜3500μmであるシリコンウエーハ。更に、表面に鏡面加工が施された面を備え、裏面は鏡面加工が施された面又は、エッチング及び加工が施された面を備えたこと。また、シリコンウエーハ中の格子間酸素濃度及び置換型炭素濃度を測定するにあたり、結晶各位置の抜き取りサンプルを用いずに直接、厚みが731〜3500μmであるシリコンウエーハを用いて、フーリエ変換赤外分光測定法にてシリコン結晶中の格子間酸素濃度([Oi])又は置換型炭素濃度([Cs])の定量測定を行うシリコンウエーハの定量測定法である。

請求項（抜粋）：

厚みが731〜3500μmであることを特徴とするシリコンウエーハ。

IPC (3件)：

H01L 21/02 ,  G01N 21/35 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

H01L 21/02 B ,  G01N 21/35 Z ,  H01L 21/66 N