特許
J-GLOBAL ID：200903006522845101
微細パタン投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-290442
公開番号（公開出願番号）：特開平5-102006
出願日： 1991年10月11日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：
【要約】【目的】 一般にLSIプロセスのパタン形成で必要とするデフォーカス量とコントラストを満足し、かつ光学系の解像性を最大とする円環光源の配置と光強度調整用フィルタの設定条件を得るようにする。【構成】 パタンの描かれた物面マスクを照射する光線が光軸に対して投影レンズの開口数に対応した角度の傾きを与える手段を有する投影露光装置において、入射瞳12の半径を投影レンズの開口数で規格化して「1」と置いた場合、開口絞り部に結ぶ光線の像が内半径R1,外半径R2をもつ円環光源13を有する。さらに投影レンズの開口絞り部に、その開口絞り部に結ぶ光線の像と同一の内半径R1で、外半径が1なる光強度調整用フィルタを有する。
請求項（抜粋）：
パタンの描かれた物面マスクを照射する光線が光軸に対して投影レンズの開口数に対応した角度の傾きを与える手段を有する投影露光装置において、入射瞳の半径を投影レンズの開口数で規格化して1と置いた場合、開口絞り部に結ぶ光線の像が内半径,外半径をもつ円環光源を有し、かつ投影レンズの開口絞り部に、該開口絞り部に結ぶ光線の像と同一の内半径で、外半径が1なる光強度調整用フィルタを有することを特徴とする微細パタン投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
