特許

J-GLOBAL ID：200903006540247378

共重合体、バッファ膜用組成物、それを用いたパターン形成方法及びそれを用いたキャパシタの製造方法

発明者： 安 選 烈 ,  姜 京 林 ,  金 泰 成 ,  金 永 虎 ,  李 政 勳
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (3件)： 八田 幹雄 ,  奈良 泰男 ,  宇谷 勝幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-223588
公開番号（公開出願番号）：特開2007-056262
出願日： 2006年08月18日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：

【課題】露光工程なしで現象溶液に対して容易なエッチング速度を有する共重合体、分子樹脂組成物及びそれを用いたパターン及びキャパシタの製造方法を提供する。【解決手段】バッファ膜用高分子組成物は、ベンジルメタクリレート、アルキルアクリル酸及びヒドロキシアルキルメタクリレートを含む共重合体、架橋剤、熱酸発生剤、界面活性剤及び残部の溶媒を含む組成を有する。このような組成を有する高分子組成物で形成されたバッファ膜は半導体素子のパターン及びキャパシタを形成する工程の縮小及び工程効率を極大化させることができるアッシング特性を有する。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

下記式(I):

IPC (7件)：

C08F 220/18 ,  C08L 33/10 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/320

FI (7件)：

C08F220/18 ,  C08L33/10 ,  H01L21/312 A ,  H01L21/306 D ,  H01L27/10 621C ,  H01L27/10 651 ,  H01L21/88 B

Fターム (69件)：

4J002BG051 ,  4J002CC082 ,  4J002EU046 ,  4J002EV256 ,  4J002FD142 ,  4J002FD206 ,  4J002GQ05 ,  4J100AB03S ,  4J100AJ02R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BC43P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  5F033HH04 ,  5F033HH18 ,  5F033HH19 ,  5F033HH33 ,  5F033HH34 ,  5F033JJ18 ,  5F033JJ19 ,  5F033KK01 ,  5F033MM05 ,  5F033NN01 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ16 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ28 ,  5F033QQ31 ,  5F033QQ35 ,  5F033QQ37 ,  5F033QQ48 ,  5F033QQ91 ,  5F033RR09 ,  5F033RR14 ,  5F033RR15 ,  5F033SS04 ,  5F033SS15 ,  5F033VV16 ,  5F033WW04 ,  5F043AA37 ,  5F043BB25 ,  5F043GG10 ,  5F058AA07 ,  5F058AA10 ,  5F058AC10 ,  5F058AF04 ,  5F058AG03 ,  5F083AD10 ,  5F083AD24 ,  5F083AD48 ,  5F083AD49 ,  5F083JA02 ,  5F083JA04 ,  5F083JA39 ,  5F083JA40 ,  5F083JA56 ,  5F083MA03 ,  5F083MA06 ,  5F083MA17 ,  5F083MA20 ,  5F083NA01 ,  5F083PR03 ,  5F083PR05 ,  5F083PR23 ,  5F083PR29 ,  5F083PR33

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 大韓民国公開特許2004-1886号明細書
  
• 大韓民国公開特許2005-2369号明細書
  
• 米国特許第6,700,153号明細書
  
• 米国特許第6,171,902号明細書