特許
J-GLOBAL ID:200903006557537248
高温対応型膜型改質器
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
小玉 秀男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-384756
公開番号(公開出願番号):特開2002-187706
出願日: 2000年12月19日
公開日(公表日): 2002年07月05日
要約:
【要約】【課題】 600°C以上の高温且つ水蒸気雰囲気等の過酷な条件下であっても効率的に水素生成反応を行い得る高温対応型の膜型改質器を提供すること。【解決手段】 上記課題を解決する本発明の改質器には、水素生成部と、その水素生成部に近接するガス通路16とが設けられており、その水素生成部とガス通路との境界には、水素生成部側からガス通路側へ水素を透過させるための水素分離膜12を備えた水素分離モジュール10が装着されている。その水素分離モジュールに接する位置には、嵩密度が0.6〜1.9g/cm3である膨張黒鉛から成るシール材38が取り付けられている。また、水素分離膜は600°Cにおける水素/窒素透過係数比が少なくとも2.5であり、その温度での水素透過率は0.1×10-6モル/m2・s・Pa以上である。
請求項(抜粋):
原料ガスから水素を生成するための改質器であって、その内部には、原料ガスから水素を生成する水素生成部と、その水素生成部に近接するガス通路とが設けられており、その水素生成部とガス通路との境界には、該水素生成部側から該ガス通路側へ水素を透過させるための水素分離膜を備えた水素分離モジュールが装着されており、その水素分離モジュールに接する位置には、前記水素分離膜を介さずに前記水素生成部側からガス通路側へガスがリークすることを防止するためのシール材が取り付けられており、ここで、該水素分離膜は600°Cにおける水素/窒素透過係数比が少なくとも2.5であり、その温度での水素透過率は0.1×10-6モル/m2・s・Pa以上であり、該シール材は嵩密度が0.6〜1.9g/cm3である膨張黒鉛またはそれと同等の性状を有する耐熱性材料から構成される改質器。
IPC (6件):
C01B 3/56
, B01D 53/22
, B01D 63/06
, B01D 71/02 500
, C01B 3/38
, H01M 8/06
FI (6件):
C01B 3/56 Z
, B01D 53/22
, B01D 63/06
, B01D 71/02 500
, C01B 3/38
, H01M 8/06 G
Fターム (35件):
4D006GA41
, 4D006HA21
, 4D006JA02B
, 4D006MA02
, 4D006MA06
, 4D006MA26
, 4D006MB04
, 4D006MB06
, 4D006MB15
, 4D006MC03
, 4D006MC03X
, 4D006MC05
, 4D006NA46
, 4D006NA62
, 4D006PA01
, 4D006PB66
, 4D006PC80
, 4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB33
, 4G040EB42
, 4G040FA02
, 4G040FB01
, 4G040FC01
, 4G040FE02
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EB37
, 4G140EB42
, 4G140FA02
, 4G140FB01
, 4G140FC01
, 4G140FE02
, 5H027BA01
, 5H027BA16
引用特許:
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