特許
J-GLOBAL ID：200903006572772180
洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-290203
公開番号（公開出願番号）：特開平8-141521
出願日： 1994年11月24日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：
【要約】【目的】 欠陥を誘発することなく洗浄を行うことが可能な洗浄装置を提供すること。【構成】 回転定盤1aは、その中央部において回転軸方向に貫通された洗浄液供給路6を有し、その端部には洗浄液供給孔5を形成してある。さらに回転スピンドル8にも同様に中央部において回転軸方向に貫通された孔が形成されている。この孔へは、恒温槽11で適当に温度制御された洗浄液が、ケミカル圧送ポンプ10により圧力及び流量を調節されて圧送されるようになしてある。ケミカル圧送ポンプ10から圧送された洗浄液は、回転スピンドル8及び回転定盤1aを通過し、回転定盤1a下面の洗浄液供給孔5から高圧状態で噴出されスクラブパッド1b,試料4間に供給される。ここでスクラバ1及び試料保持台3を高速で回転させると洗浄液は高圧に保たれたまま試料4上を通過し洗浄が進行する。
請求項（抜粋）：
試料保持台に保持された平板状試料の表面に洗浄液を供給しながら、該平板状試料と平行に対向配設されたスクラバを回転させて前記平板状試料を洗浄する洗浄装置において、前記スクラバは、前記平板状試料の表面へ前記洗浄液を供給するための洗浄液供給孔を有することを特徴とする洗浄装置。
IPC (5件)：
B08B 3/02
, B05C 9/10
, B08B 1/04
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
