特許

J-GLOBAL ID：200903006574788459

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-101521
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296782
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】 コンタクトホールの解像力、ハーフトーン露光適性が優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 脂肪族環状炭化水素基を有する繰り返し単位と、芳香族部位を含まず、特定の構造の架橋部位を含む繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)脂肪族環状炭化水素基を有する繰り返し単位と、芳香族部位を含まず、下記の一般式(a)で表される構造の架橋部位を含む繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】式(a)中、R101及びR102は、互いに独立して水素原子、置換基を有していてもよい、炭素数1〜4個のアルキル基を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/12 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/12 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (31件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J002AA031 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BK001 ,  4J002EB016 ,  4J002EB106 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002EY006 ,  4J002EZ006 ,  4J002FD206 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03